芯片的原资料是沙子，但把沙子变成芯片，要经过几千道工序，这中心还需求几百种资料，几百种设备，流程很杂乱，技能方面的要求也十分高，供应链杂乱度可谓全球榜首。

  杂乱一点，其实也没什么，但问题是美国联手日本、荷兰，在半导体设备上卡咱们脖子，不出口一些先进的芯片设备给咱们，搞得咱们在一些关键设备上，悉数要打破，要自研才行。

  所以这几年，各种芯片设备传出了不断打破，代替国外产品的音讯，那么问题来了，现在一切的国产半导体设备中，哪一种设备支撑的芯片工艺最先进？能不可以到达全球顶尖水平？

  事实上，国产的半导体设备中，还真有这么一种设备，到达了全球顶尖水平，连台积电这样的企业，都从我国企业这儿收购。

  这种设备便是刻蚀机，和光刻机比较，姓名类似，但干的事情却天壤之别，但又必不可少。

  光刻机是将芯片电路图，经过光线投影到硅晶圆上。而刻蚀机，则是将硅晶圆上没有投影的部分，蚀刻掉，只保存有投影的部分，构成电路图。光刻机和刻蚀机，是相对应的。

  国内可以出产光刻机的厂商，其实并不少，但比较知名的主要是中微半导体，由我国刻蚀机榜首人尹志尧博士兴办。

  在创建中微半导体之前，尹志尧博士曾在英特尔、泛林、使用资料等企业均工作过，个人在半导体职业具有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成果的华人之一”。

  他于2004年，带着钱，以及一帮半导体范畴的精英，回到上海兴办企业，立志要要打破国外的独占。

  兴办公司仅3年后的2007年，就推出了榜首代国产刻蚀机，还采用了双工作台，比国外竞品功率还要高。

  美国泛林集团坐不住了，一种原因是在2009年申述中微的蚀刻机损害它的权力，别的一方面则是想办法偷学中微的技能。

  后来中微没惯着它，申述泛林侵略中微商业秘要，两边你来我往，官司一打便是10多年，最终中微完全胜诉，泛林侵略中微商业秘要建立。

  而在打官司的过程中，中微的研制可一直在持续，刻蚀机也是渐渐的提高，从28nm到10nm，再到5nm、3nm。

  现在中微的刻蚀机，早就完成了3nm工艺，而且被台积电使用于实践3nm芯片出产之中，中微还表明，现在正在和客户一同实验2nm工艺的刻蚀机，后续也会用于下一代晶圆制作之中。

  不过，正如前面所言，芯片制作，需求几百种设备，而且是遵从木桶理论，实践水平取决于最短的那一块短板，所以其它国产设备也加油吧，假如和国产刻蚀机相同，到达3nm，那还怕什么禁令？回来搜狐，检查更加多